硬铬电镀添加剂

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产品代号：	HVSS
产品名称：	硬铬电镀添加剂
参考配方：

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一、消耗量

硬铬电镀工艺不含氟，阴极效率高，深镀能力好，成本低，性能稳定。而且可产生硬度达到1000HV、0.1的微裂纹硬铬。HVSS硬铬电镀工艺兼有传统硫酸型电镀液的优良特性，只对铁及铁合金产生轻微腐蚀，且有良好的阴极电流效率，可达27%（传统工艺只能依靠含氟的催化剂）。可广泛应用于耐磨镜面工件以及印刷机滚筒等各个领域，并且可在各种基材上镀出所需的厚度。

二、开缸（100L）

铬酸酐 30公斤

HVSS添加剂 5升

配槽步骤

1.彻底清洗镀槽；

2.向镀槽加入三分之二的去离子水(不能含有氯离子), 加热至50℃左右；

3.在连续搅拌条件下逐步加入所需数量的铬酸；

4.待铬酸完全溶解后, 边搅拌边加入HVSS添加剂。

注意：不需要加硫酸

5.将溶液混匀后, 加去离子水至最终体积；

6.挂入阳极；

注意：新的铅或铅合金阳极要带电下槽

7.用阴极板电解2-3小时，要大阴极小阳极，电流密度30-40 A/dm²；

8.镀液配好可以使用。

三、设备

槽体 PP或PVC衬里的钢槽

加热/冷却特覆隆加热圈/冷却圈，或钛管。

挂钩铜或镀镍的铜

四、操作条件

主要成分，工艺参数	****	范围
温度	55℃	42℃～60℃
阴极电流密度	50 A/d㎡	10～100A/d㎡
阳极电流密度	15 A/d㎡	5～30A/d㎡
电压及整流器	依据情况不同，可分为5～15V，波纹小于5%
阳极搅拌	不需。应尽量使用滚动搅拌
空气搅拌	建议不用
过滤	从一个槽过滤到另一个槽，仅在镀液反常时使用
镀速	55 A/d㎡，55℃时，约为1μm/min
镀液成分
铬酐	240～320g/L 建议新开缸用到300克
硫酸：铬酐	1.1～1.4%
密度（新开缸、铬酐浓度为300g/L时）	1.215g/cm³
	25.5°Be

五、镀液的补充与维护

1. 维护：

范围

铬酸 240 ~300 g/L

硫酸 1.1~ 1.4% （与铬酸的浓度有关）

2. 镀液的补充：

如需添料，请在测量波美或分析后进行。一般，每周需测一次波美。镀液密度会在电镀过程中下降，每添加大约1.5㎏铬酸酐可使100升镀液升高1°Be，每添加100公斤铬酸酐需补加HVSS 8-10升。

正确调整硫酸根含量通过分析数据分步处理：

> 提高1克/升单位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析纯硫酸（98%）

> 降低1克/升单位的硫酸根需要加2克/升碳酸钡

六、HVSS添加剂的影响

1. 浓度太低，镀层会出现乳白色或者变暗；浓度过高，会降低所用电流密度的****值，并导致镀层在高区烧焦或出现核状镀层。

2. 如果添加剂补充过多，只能稀释镀液。所以建议按比例加入添加剂，带出量及再循环量也会影响添加量。

七、杂质

1. 三价铬的浓度一般3-8克比较好，不能超过15g/L，如超过必须用40-50A/dm²阴极电流密度下进行电解，且使阴极面积是阳极面积的15-20%。

2. 必须严格控制带入镀液里Fe、Cu、Ni和Zn杂质。

八、废水处理

废水中含有Cr⁶⁺离子。在pH值调节到2.0 - 2.5以后,Cr⁶⁺离子可以用亚硫酸氢钠还原成Cr³⁺；在充分的反应之后, 用NaOH溶液调节pH值至8.5 - 9.0 , 使Cr³⁺生成氢氧化铬(III)沉淀。分离出的沉淀及过滤出的氢氧化物泥, 当作废物处理掉。

镀液含六价铬化合物及重金属杂质，比如铁和铜杂质。

水洗及浓缩废液的处理必须符合当地环保标准。

九、分析方法

铬酸的分析：

试剂：

H₂SO₄ 1:10

KI溶液 100g/L

淀粉溶液 20g/L

Na₂S₂O₃溶液 0.1N

步骤

1．取10mL镀液至500mL容量瓶中；

2．取10mL①的镀液至300 mL锥形瓶；

3．依次加入：50 ml水，10mL碘化钾溶液，50mL 1:10的H₂SO₄；

4．加硫代硫酸钠溶液滴定，直到棕色褪去；

5．加5 mL淀粉溶液滴定，直到变为无色，有时会出现淡绿色。

计算

g/L铬酸 = 硫代硫酸钠的滴定体积（mL）× 16.7

〖上一个产品：BMSS 镀镍乌亮走位出光剂〗〖下一个产品：MTSS 高性能不消光型镍深孔走位剂〗

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